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tnj는 산업,식품, 제약 및 화장품 분야에 적용 할 수있는 다양한 화학 물질을 제공 할 수 있습니다. 여기 당신이 찾고있는 것을 검색 할 수 있습니다.화학 이름, 카스 번호과다른 이름들. 당신은 또한 화학 물질을 찾을 수 있습니다.응용 분야이 페이지의 왼쪽에 나열되어 있습니다.

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검색 결과

보일 러 수 처리 N, N-Diethylhydroxylamine DEHA 부식 억제제로

N, N-Diethylhydroxylamine CAS 3710-84-7 좋은 화학 중간체의 종류 이다. 그것은 중 합 억제제, 색상 안정기 (photographics), 산소 폐품 (수 처리), 부식 억제 물 및 변색 억제 물 (phenolics)에 사용 될 수 있는 자유 래 디 칼 청소. 그것은 과산화 수소 용액 및 CdCl2 또는 ZnCl2의 존재에 이차 아민의 산화 반응에 의해 얻어질 수 있다.

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수 처리 Carbohydrazide 중국에서 산소 청소부로 사용

Carbohydrazide CAS 497-18-7은 백색 결정 분말, 물, 알코올, 에테르, 벤젠에 불용 성에 쉽게 용 해. Carbohydrazide 난방 또는 암모니아, 수소, 질소, 금속 산화물 및 일부 금속 백 금 또는 raney 니켈 촉매 때 파란 화 염으로 폭발 수 있습니다 형성 하는 자외선에 노출에 궤 란 한다.

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DBNPA 2, 2-dibromo-3-nitrilopropionamide CAS 10222-01-2

DBNPA 2, 2-dibromo-3-nitrilopropionamide CAS 10222-01-2 은 쉽게 산 성과 알칼리 성 조건 하에서 hydrolyzes 빠른 죽 제. 그것은 신속 하 게 살인 하 고 다음 암모니아, 브롬 이온, dibromoacetonitrile, 및 dibromoacetic 산을 포함 하 여 조건에 따라 제품의 수를 신속 하 게 저하 때문에 물에 그것의 불안정성에 대 한 선호 이다.

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2-Acrylamido-2-methylpropane 술 폰 산 앰프 CAS 15214-89-8

2-Acrylamido-2-methylpropane 술 폰 산 앰프 CAS 15214-89-8 다양 한 음이온 고분자의 화학적 특성을 변경 하는 데 사용 되는 반응, 친수성, 술 폰 산 아크릴 단위체 이다. 앰프는 물 처리, 유전, 건설 화학 제품, 의료 응용 프로그램, 퍼스널 케어 제품, 에멀젼 코팅, 접착제, 및 유동성 한정자 hydrogels 등 많은 분야에 사용 됩니다.

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수 처리 부식 억제제에 대 한 HEDP 60% 액체 및 98% 분말

물 처리 화학 1-Hydroxyethylidene-1, 1-Diphosphonic 산, HEDP로 단락입니다 좋은 스케일 방지 또는 부식 억제제 Fe, Zn, Cu를 형성 하기 위하여 물 시스템에서 금속 이온과 반응 수 있기 때문에... 킬레이트 화 칼슘 이온과 복잡 한 특히.

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머리 치료 및 피부 보습에 대 한 분해 각 질 가루

각 질 분해 및 그것의 기능 이란 무엇입니까? 각 질 분해 머리와 피부를 위한 보습 혜택 데 밝은 노란색 분말에 존재 합니다. 그것은 화장품 자료로 자주 사용 된다. 샴푸, 컨디셔너, 치료 (머리), 휴가에서 스타일, 바디 워시, 바디 로션, 치료 (바디), 클렌저, 토너, 얼굴 로션, 치료 (얼굴), 메이크업 재단, 마스카라, 립스틱, 색조 화장품에 사용 됩니다.

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PBTCA 50% 수 처리에 대 한 부식 억제제로 사용

PBTCA 50% CAS 37971-36-1 스케일 및 부식 억제제로 높은 효율적인 에이전트입니다. 그것은 아연 소금에 대 한 우수한 안정제입니다. 그것은 아연 소금, 공중 합체 합성에 적합 한 규모와 부식 억제제로 순환 시원한 물 시스템 및 유전 물 시스템에서 널리 이용 된다. 그것은 높은 온도, 높은 경도, 높은 알칼리 및 높은 농도 인덱스의 경우에 사용할 수 있습니다. Lavation 필드에서 킬레이트 화 대리인 및 금속 세제로 사용 됩니다.

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부식 억제제에 대 한 2-hydroxy Phosphonoacetic 산 (HPAA) 50% 수 처리

2-hydroxy Phosphonoacetic 산 HPAA CAS 23783-26-8 화학적으로 안정, 분해 될 하드, 산 또는 알칼리, 사용에서 안전, 아니 독성, 아니 오염에 의해 파괴 될 어렵다. HPAA 아연 용 해도 향상 시킬 수 있습니다. 부식 억제 능력 5-8 시간 보다 낫다 HEDP 및 EDTMP의. 때 낮은 분자 중합체의 부식 억제와 내장.

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